新的工藝技術(shù)現(xiàn)已應(yīng)用于研發(fā)和量產(chǎn)。通過這兩項最新技術(shù)，科銳能夠提供包括全套和專用掩模組在內(nèi)的多項代工服務(wù)以促進定制電路的快速發(fā)展。G40V4 工藝可在28V 和40V 兩種工作電壓、18GHz 以下的場效應(yīng)晶體管（FET）外緣的射頻功率密度 6W/mm的環(huán)境下進行。G50V3 工藝可在工作電壓為50V、6GHz 以下的場效應(yīng)晶體管（FET）外緣的無線射頻功率密度8W/mm的環(huán)境下進行。兩項工藝技術(shù)全部基于科銳先前發(fā)布的 G28V3 工藝技術(shù)。自2006年應(yīng)用于生產(chǎn)以來，0.4微米、工作電壓為28V 的 G28V3 工藝技術(shù)是業(yè)內(nèi)現(xiàn)場故障率最低的微波技術(shù)之一（每10億小時中有9個故障器件）。

　　科銳估計，如果在典型三部式多波段 LTE/4G 通訊遠(yuǎn)程無線電頭端（RRH）的安裝中以 GaN 替代傳統(tǒng)晶體管技術(shù)，可減少高達(dá) 20% 的 RRH 功耗，從而降低運營成本和能耗。除此之外，新工藝還能夠降低初始系統(tǒng)成本。GaN工藝的高電壓和高效率能夠幫助縮小散熱器和外殼尺寸、降低無線射頻放大器的設(shè)計復(fù)雜性以及減少交流至直流和直流至直流轉(zhuǎn)換器的成本。此外，現(xiàn)在空氣就可替代以前所需的大型風(fēng)扇實現(xiàn)系統(tǒng)冷卻。所有這些改進可節(jié)約高達(dá)10%的材料成本，大幅降低系統(tǒng)購置成本。

　　軍用雷達(dá)系統(tǒng)也可獲得同樣的優(yōu)勢。科銳GaN工藝的高效率能夠在減少工作功耗的同時減少維修費用，因此能夠顯著優(yōu)化系統(tǒng)壽命周期成本。G40V4 和 G50V3 工藝的工作（通道）結(jié)溫為225？C，平均壽命超過兩百萬小時（228年），其卓越的可靠性能夠顯著降低雷達(dá)系統(tǒng)在工作壽命內(nèi)的維修和維護成本。

　　科銳無線射頻（RF）及微波部門總監(jiān) Jim Milligan表示："我們的客戶需要可靠且更高頻率的工藝用于開發(fā) GaN 的優(yōu)勢并應(yīng)用于包括衛(wèi)星通信、雷達(dá)和電子戰(zhàn)市場在內(nèi)的高于6GHz 的領(lǐng)域，我們相信全新的 G40V4 工藝能夠很好地滿足客戶的需求。同時，針對客戶對低成本 GaN 解決方案的需求，科銳新推出了工作電壓為50V的G50V3工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)優(yōu)異的無線射頻輸出功率性價比，旨在加速 GaN 在通訊基礎(chǔ)設(shè)施等對成本極其敏感的市場領(lǐng)域中的普及， GaN 現(xiàn)在能夠在這些領(lǐng)域中提供硅 LDMOS 無法比擬的性能優(yōu)勢。"