眾所周知，晶體管要分成多種類型。其中，MOSFET作為基礎器件由于其優(yōu)越性能得到了廣泛的應用。但是目前使用的場效應管存在兩個被學術界稱為PN結的結構。正常工作時源極和襯底間的PN結始終處于正向?qū)�通狀態(tài)，所以在一般情況下，場效應管的源極和襯底是連接在一起的，由此源極和襯底間的PN結并沒有在電路中起作用。

據(jù)相關研究人員介紹，他們在集成電路的基本單元晶體管研究上取得突破，發(fā)明了一種名為單PN結的新型基礎電子器件。

他們據(jù)此提出了一項專*申請，制造一種只有一個PN結的場效應管，能夠完全取代現(xiàn)有結構的場效應管、簡化場效應管的結構、降低成本并提高集成度。

相關研究人員表示，“單PN結場效應管只需改變相應設計，完全能夠在現(xiàn)有標準的CMOS生產(chǎn)線上成功制造出來，希望能夠有設計和制造伙伴與我們進行對接，盡快向產(chǎn)業(yè)化推進。”